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首頁 > 產(chǎn)品中心 > 顯微測(cè)量?jī)x > 臺(tái)階儀 > NS200探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試

探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試

簡(jiǎn)要描述:中圖儀器NS系列探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試是一種接觸式表面形貌測(cè)量?jī)x器,可以對(duì)微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測(cè)量。對(duì)測(cè)量工件的表面反光特性、材料種類、材料硬度都沒有特別要求,樣品適應(yīng)面廣,數(shù)據(jù)復(fù)現(xiàn)性高、測(cè)量穩(wěn)定、便捷、高效,是微觀表面測(cè)量中使用非常廣泛的微納樣品測(cè)量手段。

  • 更新時(shí)間:2024-07-18
  • 產(chǎn)品型號(hào):NS200
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 訪  問  量:514

詳細(xì)介紹

品牌CHOTEST/中圖儀器價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域能源,電子,汽車,電氣,綜合

中圖儀器NS系列探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試是一種接觸式表面形貌測(cè)量?jī)x器,可以對(duì)微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測(cè)量。廣泛應(yīng)用于:大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和研究所、半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體、高亮度LED、太陽能、MEMS微機(jī)電、觸摸屏、汽車、醫(yī)療設(shè)備等行業(yè)領(lǐng)域。

探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試

NS系列探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試對(duì)測(cè)量工件的表面反光特性、材料種類、材料硬度都沒有特別要求,樣品適應(yīng)面廣,數(shù)據(jù)復(fù)現(xiàn)性高、測(cè)量穩(wěn)定、便捷、高效,是微觀表面測(cè)量中使用非常廣泛的微納樣品測(cè)量手段。


產(chǎn)品功能

1.參數(shù)測(cè)量功能

1)臺(tái)階高度:能夠測(cè)量納米到330μm甚至1000μm的臺(tái)階高度,可以準(zhǔn)確測(cè)量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料;

2)粗糙度與波紋度:能夠測(cè)量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余項(xiàng)參數(shù);

3)翹曲與形狀:能夠測(cè)量樣品表面的2D形狀或翹曲,如在半導(dǎo)體晶圓制造過程中,因多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化,或者類似透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。

2.數(shù)采與分析系統(tǒng)

1)自定義測(cè)量模式:支持用戶以自定義輸入坐標(biāo)位置或相對(duì)位移量的方式來設(shè)定掃描路徑的測(cè)量模式;

2)導(dǎo)航圖智能測(cè)量模式:支持用戶結(jié)合導(dǎo)航圖、標(biāo)定數(shù)據(jù)、即時(shí)圖像以智能化生成移動(dòng)命令方式來實(shí)現(xiàn)掃描的測(cè)量模式。

3)SPC統(tǒng)計(jì)分析:支持對(duì)不同種類被測(cè)件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析,針對(duì)批量樣品的測(cè)量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的變化趨勢(shì)。

3.光學(xué)導(dǎo)航功能

配備了500W像素的彩色相機(jī),可實(shí)時(shí)將探針掃描軌跡的形貌圖像傳輸?shù)杰浖酗@示,進(jìn)行即時(shí)的高精度定位測(cè)量。

4.樣品空間姿態(tài)調(diào)節(jié)功能

配備了精密XY位移臺(tái)、360°電動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)和電動(dòng)升降Z軸,可對(duì)樣品的XYZ、角度等空間姿態(tài)進(jìn)行調(diào)節(jié),提高測(cè)量精度及效率。

探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試

性能特點(diǎn)

1.亞埃級(jí)位移傳感器

具有亞埃級(jí)分辨率,結(jié)合單拱龍門式設(shè)計(jì)降低環(huán)境噪聲干擾,確保儀器具有良好的測(cè)量精度及重復(fù)性;

2.超微力恒力傳感器

1-50mg可調(diào),以適應(yīng)硬質(zhì)或軟質(zhì)樣品表面,采用超低慣量設(shè)計(jì)和微小電磁力控制,實(shí)現(xiàn)無接觸損傷的接觸式測(cè)量;

3.超平掃描平臺(tái)

系統(tǒng)配有超高直線度導(dǎo)軌,杜絕運(yùn)動(dòng)中的細(xì)微抖動(dòng),真實(shí)地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀形貌。


典型應(yīng)用

1、半導(dǎo)體應(yīng)用

(1)沉積薄膜的臺(tái)階高度

(2)抗蝕劑(軟膜材料)的臺(tái)階高度

(3)蝕刻速率測(cè)定

(4)化學(xué)機(jī)械拋光(腐蝕、凹陷、彎曲)

2、大型基板應(yīng)用

(1)印刷電路板(突起、臺(tái)階高度)

(2)窗口涂層

(3)晶片掩模

(4)晶片卡盤涂料

(5)拋光板

3、玻璃基板及顯示器應(yīng)用

(1)AMOLED

(2)液晶屏研發(fā)的臺(tái)階步級(jí)高度測(cè)量

(3)觸控面板薄膜厚度測(cè)量

(4)太陽能涂層薄膜測(cè)量

4、柔性電子器件薄膜應(yīng)用

(1)有機(jī)光電探測(cè)器

(2)印于薄膜和玻璃上的有機(jī)薄膜

(3)觸摸屏銅跡線

探針式臺(tái)階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測(cè)試


部分技術(shù)參數(shù)

型號(hào)NS200
測(cè)量技術(shù)探針式表面輪廓測(cè)量技術(shù)
探針傳感器超低慣量,LVDC傳感器
平臺(tái)移動(dòng)范圍X/Y電動(dòng)X/Y(150mm*150mm)(可手動(dòng)校平)
樣品R-θ載物臺(tái)電動(dòng),360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)
單次掃描長(zhǎng)度55mm
樣品厚度
50mm
載物臺(tái)晶圓尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)
尺寸(L×W×H)mm640*626*534
重量40kg
儀器電源100-240 VAC,50/60 Hz,200W

使用環(huán)境

相對(duì)濕度:濕度 (無凝結(jié))30-40% RH

溫度:16-25℃ (每小時(shí)溫度變化小于2℃)

地面振動(dòng):6.35μm/s(1-100Hz)

音頻噪音:≤80dB

空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動(dòng))

懇請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

如有疑問或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢。


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